Abordarea de noi procese tehnologice, din ce in ce mai mici, se dovedeste problematica, din cauza dimensiunilor fizice ale tranzistorilor, la limita actualelor tehnici de litografie. Asa ca principalii producatori cauta alternative. Intel, unul dintre principalii jucatori din domeniu, resimte cel mai tare aceasta presiune.
El deja este in trecere la 14 nm, si nu mai are mult pana va trebui sa incerce o schimbare majora. Si mizeaza pe litografia cu ultraviolete extreme, cu lungimea de unda de 13.5 nm. Si a investit 4.1 miliarde $ in aceasta tehnica, sperand sa faciliteze trecerea la 10 nm pana in 2015 si la 7 nm pana in 2017.
